高速雷射開發

高速雷射開發(High‑Speed Laser Development)

技術概述

高速雷射技術利用先進的光源設計與調變架構,在極短時間內輸出高品質、低雜訊且穩定的光訊號,是支撐現代高速資料傳輸、精密加工及先進感測的核心基礎。其關鍵價值在於同時實現高頻寬、低功耗與長期穩定運行,並能根據應用場景靈活調整光源架構與性能。
我們的高速雷射技術涵蓋高速 VCSEL 雷射高功率 DFB 雷射兩大方向,滿足資料中心、高速通訊與精密感測對光源品質與穩定性的嚴苛需求。團隊核心成員均來自頂尖大學光電與通訊研究室,累積超過 20 年研究經驗,並具備從材料設計、製程開發到系統整合的完整能力,在學術與產業界皆有深厚的技術基礎與實務經驗。

技術細分

高速 VCSEL 雷射

  • 高速傳輸能力:支援 25–100 Gbps 單通道速率,適用於 400G/800G 光模組。
  • 低功耗與高密度:適合短距離多通道應用,如伺服器機架內光互連。
  • 多波長陣列:支援密集波分複用(DWDM),提升通道容量。

高功率 DFB 雷射

  • 窄線寬、高相干性,適合相干通訊與長距離光纖傳輸。
  • 高功率輸出可達 +10 dBm 以上,適應高損耗與長距離鏈路。
  • 可與光放大器、矽光晶片封裝整合,降低系統插損。

核心優勢

高速雷射是現代高速光通訊與精密光應用的關鍵光源,其優勢包括高頻寬、低雜訊、低功耗與長期穩定性,能支援從資料中心到感測系統的多樣化應用,並加速新一代網路與運算架構的部署。
我們結合深厚的研究背景與產業化經驗,從基礎材料開發到系統應用皆有完整的能力,並能針對不同應用快速定制解決方案,確保產品在性能、可靠度與量產效率上均達到業界領先水準。 (字卡建議:研究背景 / 技術深度 / 高可靠度 / 量產能力)。

研究背景
來自頂大研究室,長期投入高速雷射相關領域

技術深度
具備從材料到系統的全流程設計與整合能力

高可靠度
經過長期壽命與溫度循環測試,適用嚴苛環境

量產能力
完整的製程與品質管控,支援大規模出貨

應用領域

高速雷射技術在現今與未來的高速資料傳輸、生產製造與智慧基礎建設中扮演關鍵角色。透過不同架構與功率等級的雷射方案,可針對短距離、高密度互連到長距離、高可靠傳輸等多樣化需求提供最佳化解決方案,廣泛應用於通訊、運算、感測與加工領域。​

資料中心高速光互連

5G/6G 前傳與回傳

高效能運算(HPC/AI)

分佈式光纖感測(DAS/DTS)

精密加工與檢測